Carregant...
Carregant...

Vés al contingut (premeu Retorn)

Cracks tamed

Autor
Pons, A. J.
Tipus d'activitat
Article en revista
Revista
Nature
Data de publicació
2012-05-10
Volum
485
Pàgina inicial
177
Pàgina final
178
DOI
https://doi.org/10.1038/485177a Obrir en finestra nova
Repositori
http://hdl.handle.net/2117/15994 Obrir en finestra nova
URL
http://www.nature.com/nature/journal/v485/n7397/full/485177a.html Obrir en finestra nova
Resum
Crack propagation in materials is rarely welcome. But carefully engineered cracks produced during the deposition of a film on silicon can be used to efficiently create pre-designed patterns of nanometre-scale channels.
Citació
Pons, A. J. Cracks tamed. "Nature", 10 Maig 2012, vol. 485, p. 177-178.
Grup de recerca
DONLL - Dinàmica no Lineal, Òptica no Lineal i Làsers

Participants