Carregant...
Carregant...

Vés al contingut (premeu Retorn)

Degradation and Breakdown of thin silicon dioxide films under dynamic electrical stress

Autor
Nafría, M.; Suñé, J.; Yelamos, D.; Aymerich , X.
Tipus d'activitat
Article en revista
Revista
IEEE transactions on electron devices
Data de publicació
1996-12
Volum
43
Número
12
Pàgina inicial
2215
Pàgina final
2226

Participants

  • Nafría Maqueda, Montserrat  (autor)
  • Suñé, J  (autor)
  • Yelamos Pastor, David  (autor)
  • Aymerich Humet, Xavier  (autor)