Carregant...
Carregant...

Vés al contingut (premeu Retorn)

Degradación de Stacks de puerta HfO2/SiO2 en nanodispositivos CMOS

Autor
Amat, E.; Rodríguez, R.; Porti, M.; Aguilera, L.; Boix, J.; Fernandez-Garcia, R.; Fernando, J. F.; Nafría, M.; Aymerich , X.
Tipus d'activitat
Presentació treball a congrés
Nom de l'edició
XXII Trobades científiques de la Mediterrània. Nanociència i nanotecnologia
Any de l'edició
2006
Data de presentació
2006
Llibre d'actes
Nanociència i nanotecnologia: XXII Trobades Científiques de la Mediterrània : Institut Menorquí d'Estudis, Maó-Menorca 9-11 d'octubre de 2006
Grup de recerca
RFEMC - Grup de Radiofreqüència i Compatibilitat Electromagnètica en Xarxes de Comunicacions

Participants

  • Amat, Esteve  (autor ponent)
  • Rodríguez Martínez, Rosana  (autor ponent)
  • Porti Pujal, Marc  (autor ponent)
  • Aguilera, Lidia  (autor ponent)
  • Boix, Joan  (autor ponent)
  • Fernández García, Raúl  (autor ponent)
  • Martín Antolín, Juan Fernando  (autor ponent)
  • Nafría Maqueda, Montserrat  (autor ponent)
  • Aymerich Humet, Xavier  (autor ponent)