Carregant...
Carregant...

Vés al contingut (premeu Retorn)

Silicon nitride films by chemical vapor deposition in fluidized bed reactors at atmospheric pressure (AP/FBR-CVD)

Autor
Perez-Mariano, J.; Borrós, S.; Picas, J.A.; Forn, A.; Colominas, C.
Tipus d'activitat
Article en revista
Revista
Surface and coatings technology
Data de publicació
2005-12
Volum
200
Pàgina inicial
1719
Pàgina final
1723
Grup de recerca
CDAL - Centre de Disseny d'Aliatges Lleugers i Tractaments de Superfície

Participants

  • Pérez Mariano, J  (autor)
  • Borrós Gómez, Salvador  (autor)
  • Picas Barrachina, Josep Anton  (autor)
  • Forn Alonso, Antonio  (autor)
  • Colominas Guardia, Carles  (autor)